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    平面研磨機·平面拋光機·雙面研磨機·研磨拋光耗材及配件

    平面研磨案例

    氮化鋁陶瓷拋光

    時間: 2018-10-05 分類: 平面研磨案例 瀏覽次數: 178
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    氮化鋁陶瓷是熱導率高的工程材料,與硅半導體芯片的熱膨脹系數相近,而且強度高、介電性能優異,作為一種最佳基片材料,在大功率、高速半導體和大尺寸硅芯片中得到有效應用。

    隨著現代科學技術的飛速發展,對所用材料的性能提出了更高的要求。氮化鋁陶瓷也必將在許多領域得到更為廣泛的應用!雖然多年來通過許多研究者的不懈努力,在粉末的制備、成形、燒結等方面的研究均取得了長足進展。但就截止2013年4月而言,氮化鋁的商品化程度并不高,這也是影響氮化鋁陶瓷進一步發展的關鍵因素。為了促進氮化鋁研究和應用的進一步發展,必須做好下面兩個研究工作。研究低成本的粉末制備工藝和研磨加工方法。

    工件要實現鏡面效果,基本上都是要經過粗磨、精磨和拋光這三道工序的。每一道工序都是有各自的作用。
    粗磨工序——不僅是去除毛坯的大部分余量,還要能夠精準的控制去除速率;最終保持到大致的幾何形狀與粗糙度。
    精磨工序——是在粗磨的基礎上,也是為了拋光準備的一步;結果是能夠保持最精確的幾何形狀以及精細的裂紋深度。
    拋光工序——是去除粗拋與精拋所留下的破壞層,實現光學表面最理想鏡面效果。
     
     研磨拋光過程十分復雜,設備的轉速、壓力、夾具、拋光液耗材、溫度環境對研磨加工都有重要影響。

    氮化鋁陶瓷粗精磨效果圖
                                             粗磨、精磨效果圖

    氮化鋁陶瓷研磨拋光效果圖

                                         拋光效果圖    
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